中国科研人员创新微芯片制造技术，或可超越美国制裁

这份报告题为《稳态微聚束形成机制的实验演示》（Experimental demonstration of the mechanism of steady-state microbunching）。该研究的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这使得中国绕过对用于生产微芯片的光刻机的限制成为可能。

中国科研团队相信，一种称为稳态微聚束(SSMB)的新方法可以用于大规模生产高质量的微芯片，并减少中国对阿斯麦(ASML，先进半导体材料光刻)公司等行业巨头的光刻系统的依赖。

据悉，清华大学团队正在与雄安新区有关部门积极商讨，为这一尖端项目选址。

阿斯麦（ASML）等商业公司倾向于缩小芯片制造设备的规模以利出口，与之相反，中国项目的目标是通过建造一个巨大的工厂，将多台光刻机集中在一台加速器周围，实现本地化制造。 这项创新可以促进大批量、低成本的芯片制造，并有可能推动中国在先进芯片（即2纳米芯片）的工业生产中发挥领导作用。

光刻系统是人类创造的最复杂的机器之一。目前，超短波长的极紫外(EUV)广泛应用于7纳米及以下节点的芯片生产。 阿斯麦（ASML）是唯一拥有该技术的公司，因此在市场上占据主导地位。截至2022年底，阿斯麦（ASML）已经交付了180套EUV系统。根据彭博社4月份发布的一份报告，该公司计划今年再交付60套EUV系统。

虽然有许多研究人员在追逐这项技术，但中国科学家一直在探索一条不同的道路。中国团队研究背后的理论是一种新的发光机制，称为稳态微聚束（SSMB）。该理论利用带电粒子在加速过程中释放的能量作为光源。其结果是产生带宽窄、散射角小和连续的纯EUV光。带电粒子加速时会发光，利用这一现象的加速器是目前最亮的人造光源之一。

与目前的ASML EUV技术相比，SSMB是一种更理想的光源。它具有较高的平均功率和较高的芯片产量和较低的单位成本。SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源，这也是国际社会高度关注清华大学这项研究的原因。科学家指出，这项技术可以让中国超越美国的制裁。